پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار (PVD)

پوشش دهی فیزیکی بخار (PVD)

روش پوشش دهی فیزیکی بخار (PVD) بیشتر برای تولید فیلم ‌های نازک استفاده می ‌شود. فیلم نازک اغلب برای پوشش‌ های با ضخامت کمتر از ۱۰۰nm استفاده می ‌شود.

اخیرا از این روش برای تولید نانوذرات نیز استفاده شده است. در این روش ماده مورد نظر تبخیر شده و روی زیرپایه نشانده می‌ شود. نشست فیلم‌ ها و پوشش ‌های مختلف یعنی تبخیر اتم‌ ها، مولکول ها و یا خوشه‌ های اتمی ترکیبات مورد نظر از سطح با استفاده از روش ‌های مختلف تبخیر و نشاندن آن‌ ها روی زیرپایه.

منبع اتم‌ ها و مولکول‌ ها می ‌تواند به‌صورت گازی، مایع و یا جامد باشد. تبخیر اتم‌ ها و مولکول ‌ها از هدف به وسیله منابع حرارتی انجام می ‌شود برای این منظور باید ماده اولیه تا رسیدن به فشار بخار مشخصی حرارت داده شوند. همچنین می‌ توان از باریکه‌ های پر انرژی مانند الکترون‌ ها و فوتون‌ ها برای تبخیر مواد اولیه استفاده کرد.

پوشش دهی PVD با رسوب دهی شیمیایی بخار (CVD) متفاوت است. روش رسوب فیزیکی بخار این روش بر پایه واکنش‌ های فیزیکی است و در این روش با استفاده از منابع بخار و یا مایع، اتم ‌ها و مولکول‌ های واکنش ‌دهنده را به‌ وجود می ‌آورند.

 

آیا مقاله برای شما مفید بود ؟
5/ rateraterateraterate
5
2 نظر ثبت شده
  • دانلود فقط با IP ایران امکانپذیر است. در صورت عدم مشاهده باکس قرمز رنگ دانلود، VPN خود را خاموش نموده و صفحه را رفرش کنید.

  • پسورد فایل فشرده : www.iran-mavad.com

دانلود پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار
6.33MB PDF

مطالب مرتبط

دیدگاه کاربران

  • ... 1400 مهر 25 یکشنبه

    سلام
    لینک دانلود دیگه وجود نداره..

    آیا برای شما مفید بود
    • امیرمحمد دارابی 1400 مهر 25 یکشنبه

      درود
      ممنون از توجه شما
      لینک مربوطه اصلاح شد.

      آیا برای شما مفید بود