بررسی تشکیل پوشش آلومیناید اصلاح شده با سیلیسیم با فرآیند اکتیویته بالا-دما بالا
بررسی تشکیل پوشش آلومیناید اصلاح شده با سیلیسیم با فرآیند اکتیویته بالا-دما بالا
شرح :
بررسی تشکیل پوشش آلومیناید اصلاح شده با سیلیسیم با فرآیند اکتیویته بالا-دما بالا: در این تحقیق، رفتار الکتروشیمیایی لایه رویین تشکیل شده روی فولاد زنگ نزن ۳۰۴ در محلول های اسید نیتریک با روش های پلاریزاسیون پتانسیودینامیک، طیف سنجی امپدانس الکتروشیمایی و موت – شاتکی بررسی
شد. منحنیهای پلاریزاسیون پتانسیودینامیک نشان دادند که فولاد زنگ نزن ۳۰۴ در محلول های اسید نیتریک رفتار رویین عالی را نشان میدهد. همچنین، نتایج پلاریزاسیون پتانسیودینامیک آشکار ساخت که چگالی جریان خوردگی با ا فزایش غلظت محلول، افزایش م ی یابد. نتایج آزمون های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد
که بهترین مدار معادل دارای دو ثابت زمانی است : ثابت زمانی اول مربوط به فرایند انتقال بار مرتبط است در حالیکه ثابت زمانی دوم مربوط به لایه رویین است . هم چنین نتای ج طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیای ی آشکارساخت که با افزایش غلظت محلول، مقاومت لایه رویین و مقاومت انتقال بار و در نتیجه مقاومت پلاریزاسیون
کاهش می یابند. آزمونهای موت – شاتکی آشکار ساخت که رفتار لایه رویین تشکیل شده در پتانسی ل های کمتر و میباشد. همچنین آزمونهای موت- شاتکی نشان داد که p‐ و نوع n‐ بیشتر از پتانسیل فلت باند بهترتیب از نوع چگالی دهنده ها و گیرنده های الکترونی در محدوده ۱۰ به توان ۲۱ بر سانتی متر مکعب قرار دارند و با افزایش غلظت محلول افزایش مییابند.
قالب بندی : PDF
تعداد صفحات :۱۶
حجم :۳٫۶۳MB
دیدگاه کاربران