تأثیر دوپت استرانسیم بر لایه های نانوساختار سیلیکات بیسموت

تأثیر دوپت استرانسیم بر لایه های نانوساختار سیلیکات بیسموت

Synthesis and evaluation of the structural and optical properties of Sr-doped bismuth silicate nanostructured films

sample article

شرح:

تأثیر دوپت استرانسیم بر لایه های نانوساختار سیلیکات بیسموت: در این پژوهش، لایه های نانوساختار سیلیکات بیسموت (Bi4Si3O12) به روش سل- ژل تهیه و سپس تأثیر افزودن ماده استرانسیم برساختار، مورفولوژی و خواص نوری آنها مورد بررسی قرار گرفت. در این راستا ابتدا سل های مختلف با نسبت های بهینه از مواد اولیهتهیه شد و سپس سل های تهیه شده به روش غوطه وری بر روی زیرلایه با سرعت یک میلیمتر بر ثانیه لایه نشانی شد. در ادامه نمونه های تولید شده در دمای °۱۰۰Cخشک و به منظور دستیابی به ساختار کریستالی در دمای°۷۰۰Cبه مدت یک ساعت کلسینه شد. درنهایت نمونه های تهیه شده با استفاده از دستگاه هایFT-IR،XRD,SEMوUV-Visمورد آنالیز و ارزیابی قرار گرفتند. نتایج حاکی از تشکیل پوششی یکنواخت و همگن از ساختار سیلیکات بیسموت با اندازه ذرات۳۵و۵۰نانومتر میباشد. بررسی خواص نوریاین لایه ها نشان داد که با افزودن ماده دوپت شفافیت لایه ها کاهش یافته و گاف انرژی نیز از۳/۶۱به ۳/۳۲ev کاهش می یابد.سرامیک های سیلیکات بیسموت دارای خواص پیزوالکتریکی، فعالیت نوری، قابلیت هدایت نور و شکست نور میباشد، که کاربردهایی  در زمینه ساخت وسایل نوری، بازخوانی حافظه نوری، تقویت کننده های نوری، لیزر نوری و حافظه فروالکتریک دارد.

کلمات کلیدی: سیلیکات بیسموت، فرآیند سل- ژل, استرانسیم، خواص ساختاری و نوری.

قالب بندی : PDF

تعداد صفحات :۱۱

حجم :۱۴۵۰kB

لینک دانلود

 مشاهده مطالب مرتبط
آیا مقاله برای شما مفید بود ؟
5/
0
0 نظر ثبت شده
مواد کنکور

مطالب مرتبط

دیدگاه کاربران