پکیج های آموزشیبهترین ها برای شما

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار Physical Vapour Deposition – PVD

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار

Physical Vapour Deposition(PVD)

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار

Physical Vapour Deposition – PVD

شرح:

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار Physical Vapour Deposition – PVD : روش رسوب فیزیکی بخار بیشتر برای تولید فیلم ‌های نازک استفاده می ‌شود. فیلم نازک اغلب برای پوشش‌ های با ضخامت کمتر از 100nm استفاده می ‌شود. اخیرا از این روش برای تولید نانوذرات نیز استفاده شده است. در این روش ماده مورد نظر تبخیر شده و روی زیرپایه نشانده می‌ شود. نشست فیلم‌ ها و پوشش ‌های مختلف یعنی تبخیر اتم‌ ها، مولکول ها و یا خوشه‌ های اتمی ترکیبات مورد نظر از سطح با استفاده از روش ‌های مختلف تبخیر و نشاندن آن‌ ها روی زیرپایه. منبع اتم‌ ها و مولکول‌ ها می ‌تواند به‌صورت گازی، مایع و یا جامد باشد. تبخیر اتم‌ ها و مولکول ‌ها از هدف به وسیله منابع حرارتی انجام می ‌شود برای این منظور باید ماده اولیه تا رسیدن به فشار بخار مشخصی حرارت داده شوند. همچنین می‌ توان از باریکه‌ های پر انرژی مانند الکترون‌ ها و فوتون‌ ها برای تبخیر مواد اولیه استفاده کرد. روش PVD با روش CVD متفاوت است. روش رسوب فیزیکی بخار این روش بر پایه واکنش‌ های فیزیکی است و در این روش با استفاده از منابع بخار و یا مایع، اتم ‌ها و مولکول‌ های واکنش ‌دهنده را به‌ وجود می ‌آورند.

قالب بندی : PDF

تعداد صفحات : 20

حجم :‌ 6.33MB

لینک دانلود

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار

Physical Vapour Deposition – PVD

سوالی دارید ؟تست

منبع ایران مواد

زکات علم نشر آن است. حضرت علی (ع)

شما نیز می توانید مستندات علمی اعم از مقاله ، فیلم ، گزارش ، تحقیق و پژوهش ، کتاب الکترونیک خود را برای ما ارسال کنید تا با ذکر نام شریفتان از وبسایت ایران مواد منتشر گردد .

فایل خود را ارسال کنید

دیدگاه کاربران ۰دیدگاه

دیدگاه خود را بنویسید